離子束刻蝕（ion
離子束刻蝕（ion-beametching）
離子束刻蝕，也稱為離子銑，它的主要原理是當定向高能離子向固體靶撞擊時，能量從入射離子轉移到固體表面原子上，如果固體表面原子間結合能低于入射離子能量時，固體表面原子就會被移開或從表面上被除掉。通常離子束刻蝕所用的離子來自惰性氣體。為了保證刻蝕的均勻性，離子束密度必須均勻并且應具有相同能量。此外，系統內的壓力必須足夠低，以防止離子束被散射。離子束刻蝕的機構決定了這種刻蝕有好的各向異性，又因為粒子尺寸是離子或原子量級的，因而這種刻蝕也具有較高的分辨率。這種技術的主要限制是刻蝕過程引起溫升，這將使光刻膠很難除掉。
