離子注入（ionimplantation）
離子注入（ionimplantation）
用離子加速器將各種離子注入半導體材料，從而改變半導體材料的電學、光學或其他物理性質的半導體工藝技術，稱為離子注入技術。自從20世紀70年代以來離子注入技術在半導體器件制備工藝中獲得了廣泛應用，是半導體器件工藝的最主要技術之一。
